| 1. Identificação | |
| Tipo de Referência | Artigo em Revista Científica (Journal Article) |
| Site | mtc-m16.sid.inpe.br |
| Código do Detentor | isadg {BR SPINPE} ibi 8JMKD3MGPCW/3DT298S |
| Identificador | 6qtX3pFwXQZ3r59YDa/JpLJN |
| Repositório | sid.inpe.br/iris@1916/2005/12.09.15.47 (acesso restrito) |
| Última Atualização | 2013:03.21.18.18.54 (UTC) administrator |
| Repositório de Metadados | sid.inpe.br/iris@1916/2005/12.09.15.47.41 |
| Última Atualização dos Metadados | 2018:06.05.01.16.18 (UTC) administrator |
| Chave Secundária | INPE--PRE/ |
| DOI | 10.1016/j.nimb.2005.06.115 |
| ISSN | 0168-583X 0167-5087 |
| Chave de Citação | UedaReutLepi:2005:CoNiIo |
| Título | Comparison of nitrogen ion beam and plasma immersion implantation in Al5052 alloy  |
| Ano | 2005 |
| Data de Acesso | 03 maio 2024 |
| Tipo Secundário | PRE PI |
| Número de Arquivos | 1 |
| Tamanho | 226 KiB |
| 2. Contextualização | |
| Autor | 1 Ueda, Mario 2 Reuther, H 3 Lepienski, C. M. |
| Grupo | 1 LAP-INPE-MCT-BR |
| Afiliação | 1 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais, Laboratório Associado de Plasmas, (INPE, LAP) |
| Revista | Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms |
| Volume | 240 |
| Páginas | 199–203 |
| Histórico (UTC) | 2005-12-09 15:47:42 :: vinicius -> administrator :: 2013-03-08 18:26:04 :: administrator -> marciana :: 2005 2013-03-21 18:18:56 :: marciana -> administrator :: 2005 2018-06-05 01:16:18 :: administrator -> marciana :: 2005 |
| 3. Conteúdo e estrutura | |
| É a matriz ou uma cópia? | é a matriz |
| Estágio do Conteúdo | concluido |
| Transferível | 1 |
| Tipo do Conteúdo | External Contribution |
| Palavras-Chave | Nitrogen ion implantation Al5052 alloy Ion beam Plasma immersion ion implantation |
| Resumo | Experiments comparing nitrogen ion implantations in Al5052 by beam and plasma immersion were carried out. Beam implantation (BI) was carried out using a 100 keV, high current beam implanter while the plasma immersion ion implantation (PIII) was obtained using a glow discharge plasma source coupled to a pulsed high voltage supply. A nitrogen BI dose of 5 · 1017 cm2 at 100 keV was attained with near Gaussian implantation profile while the PIII was performed until we reached similar doses with a maximum energy of 15 keV. Implantation profiles were obtained by Auger electron spectroscopy (AES). X-ray diffraction (XRD) indicated the formation of AlN in both cases but it was more clearly demonstrated by high resolution AES. For BI treatment, a buried AlN layer was achieved while for PIII, a layer of AlNxOy close to the surface was seen. Due to the high temperature reached in the PIII processing (400 C), a softening of the Al5052 bulkresulted while for BI processed samples with <200 C an increase in hardness was observed. |
| Área | FISPLASMA |
| Arranjo | urlib.net > BDMCI > Fonds > Produção anterior à 2021 > LABAP > Comparison of nitrogen... |
| Conteúdo da Pasta doc | acessar |
| Conteúdo da Pasta source | não têm arquivos |
| Conteúdo da Pasta agreement | não têm arquivos |
| 4. Condições de acesso e uso | |
| Idioma | en |
| Arquivo Alvo | 1-s2.0-S0168583X05010682-main.pdf |
| Grupo de Usuários | administrator marciana vinicius |
| Visibilidade | shown |
| Política de Arquivamento | denypublisher denyfinaldraft24 |
| Permissão de Leitura | deny from all and allow from 150.163 |
| Permissão de Atualização | não transferida |
| 5. Fontes relacionadas | |
| Unidades Imediatamente Superiores | 8JMKD3MGPCW/3ET2RFS |
| Divulgação | WEBSCI; PORTALCAPES; COMPENDEX. |
| Acervo Hospedeiro | sid.inpe.br/banon/2003/08.15.17.40 |
| 6. Notas | |
| Campos Vazios | alternatejournal archivist callnumber copyholder copyright creatorhistory descriptionlevel e-mailaddress electronicmailaddress format isbn label lineage mark mirrorrepository month nextedition notes number orcid parameterlist parentrepositories previousedition previouslowerunit progress project readergroup resumeid rightsholder schedulinginformation secondarydate secondarymark session shorttitle sponsor subject tertiarymark tertiarytype typeofwork url versiontype |
| 7. Controle da descrição | |
| e-Mail (login) | marciana |
| atualizar | |