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1. Identificação
Tipo de ReferênciaArtigo em Revista Científica (Journal Article)
Código do Detentorisadg {BR SPINPE} ibi 8JMKD3MGPCW/3DT298S
Sitemtc-m16.sid.inpe.br (namespace prefix: upn:KLE2JH)
Identificador6qtX3pFwXQZ3r59YDa/KbNQw
Repositóriosid.inpe.br/iris@1916/2006/02.16.15.37   (acesso restrito)
Última Atualização2006:02.16.15.37.00 (UTC) administrator
Repositório de Metadadossid.inpe.br/iris@1916/2006/02.16.15.38.01
Última Atualização dos Metadados2018:06.05.01.20.24 (UTC) administrator
Chave SecundáriaINPE-13534-PRE/8747
ISSN0257-8972
Chave de CitaçãoRossiUedaBarr:2001:PlImIo
TítuloPlasma immersion ion implantation experiments with long and short rise time pulses using high voltage hard tube pulser
Ano2001
Data de Acesso25 ago. 2026
Tipo SecundárioPRE PI
Número de Arquivos1
Tamanho134 KiB
2. Contextualização
Autor1 Rossi, José Oswaldo
2 Ueda, Mario
3 Barroso, Joaquim Jose
Identificador de Curriculo1
2 8JMKD3MGP5W/3C9JHSB
Grupo1 LAP-INPE-MCT-BR
Afiliação1 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais, Laboratório Associado de Plasmas, (INPE, LAP)
RevistaSurface and Coatings Technology
Volume136
Páginas43-46
Acervo Hospedeirosid.inpe.br/banon/2003/08.15.17.40 upn:KLE2JH
Histórico (UTC)2006-02-16 15:38:02 :: vinicius -> administrator ::
2008-06-10 22:25:18 :: administrator -> vinicius ::
2011-05-22 02:56:47 :: vinicius -> administrator ::
2018-06-05 01:20:24 :: administrator -> marciana :: 2001
3. Conteúdo e estrutura
É a matriz ou uma cópia?é a matriz
Estágio do Conteúdoconcluido
Transferível1
Tipo do ConteúdoExternal Contribution
Palavras-ChaveHigh voltage pulse generator
Plasma immersion implantation
Rise and fall times of high voltage pulses
ResumoThe performances of two high voltage pulse generators using different circuit configurations for the treatment of metals and polymer materials by plasma immersion ion implantation are assessed. Both pulse generators were built in the circuit category of hard tube type which uses a high power tetrode as a fast on]off switch to control the pulse duration. The first pulse generator has . a maximum capacity of 60 kVr10 A at a repetition frequency of 700 Hz with a long pulse rise time of the order of 40 ms while the second one is able to operate with full voltage and current of 30 kV and 30 A at 1 kHz with a very short pulse rise time less . than 1 ms . It is shown that the better performance of the latter pulser in terms of rise time is due to a different configuration circuit employed in its construction. Target voltage and implantation current from the application of both pulsers to a plasma glow discharge are discussed using a stationary plasma circuit model.
ÁreaFISPLASMA
Arranjourlib.net > BDMCI > Fonds > Produção anterior à 2021 > LABAP > Plasma immersion ion...
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4. Condições de acesso e uso
Idiomaen
Arquivo Alvo63.pdf
Grupo de Usuáriosadministrator
vinicius
Visibilidadeshown
Detentor da CópiaSID/SCD
Política de Arquivamentodenypublisher denyfinaldraft24
Permissão de Leituradeny from all and allow from 150.163
5. Fontes relacionadas
Unidades Imediatamente Superiores8JMKD3MGPCW/3ET2RFS
DivulgaçãoWEBSCI; PORTALCAPES.
6. Notas
Campos Vaziosalternatejournal archivist callnumber copyright creatorhistory descriptionlevel documentstage doi e-mailaddress electronicmailaddress format isbn label lineage mark mirrorrepository month nextedition notes number orcid parameterlist parentrepositories previousedition previouslowerunit progress project readergroup rightsholder schedulinginformation secondarydate secondarymark session shorttitle sponsor subject tertiarymark tertiarytype typeofwork url versiontype
7. Controle da descrição
e-Mail (login)marciana
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